The authors are grateful for the financial support from Ministry of Science and Technology.

1. הכנת הכסף מבשר הדיו <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> להוסיף 1.85 גרם של Diethanolamine (DEA) ב3.15 מיליליטר deionized מים. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> ממיסים 0.15 גרם של חנקה כסף ב 5 מיליליטר deionized מים. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> מערבבים את תמיסת הכסף חנקה המימית עם DEA ביחס של 1: 1 נפח ליש לי דיו מבשר 10 מיליליטר כסף ממש לפני השימוש. </li></ol> 2. ייצור של המתיחה ואטימה Thin Films <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> הכנת דיו AgNW <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> לדלל 2 מיליליטר של 0.5% בWT AgNWs isopropanol עם 18 מיליליטר מים deionized. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> למקם אותו באמבטיה קולית במשך 30 שניות על 25 מעלות צלזיוס. </li></ol></li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> המצאה של סרטים דקים AgNW על ידי ציפוי אוטומטי ריסוס <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> חותך סטנדרטי שקופיות מיקרוסקופ לחתיכות בגודל שווה ל1 × 2.5 סנטימטר 2. הכן 16 חתיכות זכוכית בגודל זה ולנקות אותם עם רקמת ניקוי עדשה רטובת אתנול. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> העברת דיו 16 מיליליטר AgNW (מסעיף 1) לתוך כוס הצבע של airbrush עם טפטפת. הר airbrush על רובוט מבוקר מחשב לציפוי תרסיס. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> הנח 8 חתיכות זכוכית ב4 × 2 הסדר על הבמה ולתקן אותם עם קלטות עמידות בחום. השטח הכולל של כל מצעי הזכוכית על הבמה הוא 4 × 5 סנטימטר 2. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> להגדיר לחץ עבודה וטמפרטורת שלב חימום בבר 3 ו 100 מעלות צלזיוס, בנפרד. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> פתח את תוכנת שליטת רובוט. לחץ כדי לבחור רצף פקודת תנועת מברשת תחת עמודת &quot;הפיקוד&quot;. סוג בפרמטרי קלט דרושים כדי להשלים את תכנית הריסוס האוטומטי, כפי שמוצג באיור 1. הפעל את התכנית. הערה: הפקודה &quot;מהירות קו&quot; הופכת את הנסיעה airbrush ב 200 מ&quot;מ / sec. על ידי הפקודה &quot;אזור המברשת&quot;, airbrush נע קדימה ואחורה לכיוון הצד הקצר של מערך מצע זכוכית בעת מהלכי השלב לאורך הכיוון של הצד הארוך והחלל שבין שתי פעימות הוא 5 מ&quot;מ. &quot;התחל הקו&quot; ו- &quot;ליןדואר הסוף &quot;פקודות לקבוע את העמדות של נקודות התחלה וסיום מבצע ריסוס האוטומטי. העמדות שלהם תלויות בעמדה של מערך מצע זכוכית על הבמה.&quot; פקודת חכה נקודה &quot;קובעת זמן ההמתנה של 20 שניות ב בסוף כל מחזור הריסוס אוטומטי. &quot;לולאת כתובת&quot; הפקודה מאפשרת מחזורי תרסיס מרובים ומספר מחזורי ריסוס האוטומטי הוא 15 פעמים. ניתן למצוא הוראות מפורטות יותר של פקודות בפרוטוקול של היצרן. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> לשנות את מספר מחזורי ריסוס האוטומטי ל -30 פעמים. חזור על השלבים 2.2.3 - 2.2.5 לפברק סרטים דקים AgNW של 30 מחזורי ריסוס. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> לאחר ציפוי תרסיס, לאפות סרטי כסף nanowire דקים על צלחת חמה ב 120 מעלות צלזיוס במשך 10 דקות. </li></ol></li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> תהליך הלחמה כימי <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> יצוק 400 μl של דיו מבשר כסף על כל סרט מצופה תרסיס nanowire הכסף דק על מצע הזכוכית. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> אופים את הסרטים על צלחת חמה ב 100 ו# 176; C במשך 40 דקות. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> יש לשטוף את ציפוי התגובה בזהירות עם מים ללא יונים כדי להסיר שאריות כימיות בלתי-ואוויר יבש סרטים המצופים. </li></ol></li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> עופרת-קילוף תהליך <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> יצוק 200 μl תחליב PU בסיס מים זמין מסחרי על כל סרט כסף ננו-מרוכבים דקים על מצע הזכוכית. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> אוויר יבש הסרטים במשך 10 שעות על מנת להבטיח התמצקות מלאה. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> לקלף את הדגימות מזכוכית מצעי סרטים מרוכבים שעמדו חופשי. </li></ol></li></ol> 3. אפיון <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> בדיקת מתיחה <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> הפעל את השלב ליניארי ממונע ולחכות 10 דקות למכונה להתחמם. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> פתח את תוכנת שליטת שלב. הגדר את מספר הצעדים הנעים של המנוע כ8,000. לחץ על &quot;X +&quot; בתוכנת שליטת במה כדי להעביר את השלב הנייד עד שהוא נוגע בשלב הקבוע ולחץ על &quot;SET 0&quot; כדי לקבוע את המיקום של tהוא שלב נייד כמו אפס בתוכנת שליטת שלב. הערה: השלב הנייד נע .00125 מ&quot;מ בצעד אחד של המנוע. לדוגמא, השלב הנייד נע 1 סנטימטר אם המנוע נע 8,000 צעדים. בתוספת הסימן &quot;X +&quot; פירושו שמהלכי השלב הניידים בכיוון של התקרבות שלב קבוע בזמן שהסימן השלילי של &quot;X-&quot; פירושו מתרחק מהשלב הקבוע. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> לחץ על &quot;X-&quot; כדי להזיז את הבמה הניידת להשאיר מקום 1 סנטימטר בין השלב הנייד ונייח. Secure בשני הקצוות של המדגם עם בעלי קווית על השלבים. וכך, באזור המשתרע מהמדגם הוא 1 × 1 סנטימטר 2. ההתקנה של מתיחת מכונה מוצגת באיור 2. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> השתמש בקליפים התנין, שהם קצוות האחרים של כבלי החיווט למחזיקי השלב (איור 2), כדי להתחבר למודד הדיגיטלי למדידת התנגדות. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> הגדר את מספר הצעדים המרגשים של המנוע כמו &quot;X-&quot; 800. לחץ כדי movדואר מ&quot;מ הנייד שלב 1 (זן 10%) מהשלב הקבוע כדי למתוח את המדגם ולהקליט את ההתנגדות. חזור על פעולה זו עד להתנגדות מגבירה באופן משמעותי (~ זן 150%). </li></ol></li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> בדיקת יציבות <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> הכן את המבחן כמו בשלבים 3.1.2 - 3.1.4. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> פתח את תוכנת מודד הדיגיטלית. חבר את מודד הדיגיטלי למחשב. לחץ לחיצה ארוכה על לחצן &quot;REL Δ&quot; על מודד הדיגיטלי עד סמל מחשב מופיעה בפינה השמאלית העליונה של מסך מודד הדיגיטלי. לחץ על &quot;חיבור USB&quot; בתוכנת מודד הדיגיטלית והתוכנה מתחילה להקליט התנגדויות נמדדו. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> הזן את הפקודות לשדות הקלט בלוח התכנית של תוכנת שליטת שלב כפי שמוצג באיור 3 הפקודה. &quot;: U-4000&quot; פירושו להעביר את השלב הנייד 4,000 צעדים מהבמה קבועה ואילו הפקודה: אמצעי &quot;U4000&quot; כדי להזיז את הבמה הניידת 4,000 צעדים אחורהלבמה קבועה (4,000 למתח של 50%, 8,000 100 מתח%). מספר מחזורי מתיחה הוא 15 פעמים. מהירות ברירת המחדל של השלב הנייד היא 1 מ&quot;מ / sec. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> לחץ על &quot;הפעל 123&quot; בפנל התכנית של תוכנת שליטת במה כדי לבצע את התכנית האוטומטית. מהלכי השלב הניידים בתנועת הדדיות כדי למתוח את המדגם עם מחזורי התארכות של צורת גל משולשת. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> לחץ על סמל לחסוך בתוכנה מודד ולייצא את הנתונים של פרופילי תגובת התנגדות כקובץ .xls. </li></ol></li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> בדיקת תאורת LED <ol style=";text-align:right;direction:rtl"><li style=";text-align:right;direction:rtl"> הכן את המבחן כמו בשלבים 3.1.2 - 3.1.3. חבר את בעלי קווי בסדרה עם LED ואספקת חשמל. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> הפעל את אספקת החשמל. להגדיל את המתח עד 9 V להדליק את הנורית. </li><li style=";text-align:right;direction:rtl"> לחץ על &quot;X-&quot; כדי להזיז את מ&quot;מ (זן 10%) הנייד שלב 1 מבמה קבועה כדי למתוח את המדגם ולצלם להקליט את הבהירות של LED. חזור על פעולה זו עד לאור LED הופך עמום. היזהר שאוטומטי החשיפה של המצלמה צריכה להיות כבויה בעת צילום תמונות. </li></ol></li></ol>

<ol>
	<li>Rogers, J. A., Someya, T., Huang, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Materials+and+mechanics+for+stretchable+electronics.">Materials and mechanics for stretchable electronics.</a> Science. 327 (5973), 1603-1607 (2010).</li><li>Mazzeo, A. D., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Paper-based,+capacitive+touch+pads.">Paper-based, capacitive touch pads.</a> Adv. Mater. 24 (21), 2850-2856 (2012).</li><li>Yang, C., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silver+nanowires:+from+scalable+synthesis+to+recyclable+foldable+electronics.">Silver nanowires: from scalable synthesis to recyclable foldable electronics.</a> Adv. Mater. 23 (27), 3052-3056 (2011).</li><li>Sekitani, T., Someya, T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Stretchable,+Large-area+Organic+Electronics.">Stretchable, Large-area Organic Electronics.</a> Adv. Mater. 22 (20), 2228-2246 (2010).</li><li>Lipomi, D. J., Tee, B. C., Vosgueritchian, M., Bao, Z. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Stretchable+organic+solar+cells.">Stretchable organic solar cells.</a> Adv. Mater. 23 (15), 1771-1775 (2011).</li><li>Liang, J., Li, L., Niu, X., Yu, Z., Pei, Q. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Elastomeric+polymer+light-emitting+devices+and+displays.">Elastomeric polymer light-emitting devices and displays.</a> Nat. Photonics. 7 (10), 817-824 (2013).</li><li>White, M. S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Ultrathin,+highly+flexible+and+stretchable+PLEDs.">Ultrathin, highly flexible and stretchable PLEDs.</a> Nat. Photonics. 7 (10), 811-816 (2013).</li><li>Chang, I., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Performance+enhancement+in+bendable+fuel+cell+using+highly+conductive+Ag+nanowires.">Performance enhancement in bendable fuel cell using highly conductive Ag nanowires.</a> Int. J. Hydrogen Energ. 39 (14), 7422-7427 (2014).</li><li>Yan, C. Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+Intrinsically+Stretchable+Nanowire+Photodetector+with+a+Fully+Embedded+Structure.">An Intrinsically Stretchable Nanowire Photodetector with a Fully Embedded Structure.</a> Adv. Mater. 26 (6), 943-950 (2014).</li><li>Lee, M. S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=High-performance,+transparent,+and+stretchable+electrodes+using+graphene-metal+nanowire+hybrid+structures.">High-performance, transparent, and stretchable electrodes using graphene-metal nanowire hybrid structures.</a> Nano Lett. 13 (6), 2814-2821 (2013).</li><li>Xu, F., Zhu, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Highly+conductive+and+stretchable+silver+nanowire+conductors.">Highly conductive and stretchable silver nanowire conductors.</a> Adv. Mater. 24 (37), 5117-5122 (2012).</li><li>Yun, S., Niu, X., Yu, Z., Hu, W., Brochu, P., Pei, Q. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Compliant+silver+nanowire-polymer+composite+electrodes+for+bistable+large+strain+actuation.">Compliant silver nanowire-polymer composite electrodes for bistable large strain actuation.</a> Adv. Mater. 24 (10), 1321-1327 (2012).</li><li>Lee, P., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Highly+stretchable+and+highly+conductive+metal+electrode+by+very+long+metal+nanowire+percolation+network.">Highly stretchable and highly conductive metal electrode by very long metal nanowire percolation network.</a> Adv. Mater. 24 (25), 3326-3332 (2012).</li><li>Akter, T., Kim, W. S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Reversibly+Stretchable+Transparent+Conductive+Coatings+of+Spray-Deposited+Silver+Nanowires.">Reversibly Stretchable Transparent Conductive Coatings of Spray-Deposited Silver Nanowires.</a> ACS Appl. Mater. Interfaces. 4 (4), 1855-1859 (2012).</li><li>Madaria, A., Kumar, A., Ishikawa, F., Zhou, C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Uniform,+highly+conductive,+and+patterned+transparent+films+of+a+percolating+silver+nanowire+network+on+rigid+and+flexible+substrates+using+a+dry+transfer+technique.">Uniform, highly conductive, and patterned transparent films of a percolating silver nanowire network on rigid and flexible substrates using a dry transfer technique.</a> Nano Res. 3 (8), 564-573 (2010).</li><li>Lee, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Room-Temperature+Nanosoldering+of+a+Very+Long+Metal+Nanowire+Network+by+Conducting-Polymer-Assisted+Joining+for+a+Flexible+Touch-Panel+Application.">Room-Temperature Nanosoldering of a Very Long Metal Nanowire Network by Conducting-Polymer-Assisted Joining for a Flexible Touch-Panel Application.</a> Adv. Funct. Mater. 23 (34), 4171-4176 (2013).</li><li>Tokuno, T., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Fabrication+of+silver+nanowire+transparent+electrodes+at+room+temperature.">Fabrication of silver nanowire transparent electrodes at room temperature.</a> Nano Res. 4 (12), 1215-1222 (2011).</li><li>Garnett, E. C., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Self-limited+plasmonic+welding+of+silver+nanowire+junctions.">Self-limited plasmonic welding of silver nanowire junctions.</a> Nat. Mater. 11 (3), 241-249 (2012).</li><li>Zhu, S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Transferable+self-welding+silver+nanowire+network+as+high+performance+transparent+flexible+electrode.">Transferable self-welding silver nanowire network as high performance transparent flexible electrode.</a> Nanotechnology. 24 (10), 1321-1327 (2013).</li><li>Han, S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Fast+Plasmonic+Laser+Nanowelding+for+a+Cu-Nanowire+Percolation+Network+for+Flexible+Transparent+Conductors+and+Stretchable+Electronics.">Fast Plasmonic Laser Nanowelding for a Cu-Nanowire Percolation Network for Flexible Transparent Conductors and Stretchable Electronics.</a> Adv. Mater. 26 (33), 5808-5814 (2014).</li><li>Chen, S. P., Liao, Y. C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Highly+stretchable+and+conductive+silver+nanowire+thin+films+formed+by+soldering+nanomesh+junctions.">Highly stretchable and conductive silver nanowire thin films formed by soldering nanomesh junctions.</a> Phys. Chem. Chem. Phys. 16 (37), 19856-19860 (2014).</li><li>Chen, S. P., Kao, Z. K., Lin, J. L., Liao, Y. C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Silver+conductive+features+on+flexible+substrates+from+a+thermally+accelerated+chain+reaction+at+low+sintering+temperatures.">Silver conductive features on flexible substrates from a thermally accelerated chain reaction at low sintering temperatures.</a> ACS Appl. Mater. Interfaces. 4 (12), 7064-7068 (2012).</li></ol>

The authors have nothing to disclose.

תהליך ההלחמה הכימית יכול לעזור לחזק את הקשר בין ננו-חוטים הכסף. כפי שניתן לראות באיור 4, צמתים חוט / חוט מכוסים כסף לאחר החלת דיו כסף התגובה על התרסיס מצופה שכבה דקה AgNW. התאוששות הכסף מסתמכת מאוד על פורמלדהיד שנוצר מפירוק DEA, ובכך תהליך ההלחמה או הפחתת כסף יכול להיות מואצת עם הגדלת טמפרטורה. 22 בגלל משטחי המתכת של AgNWs לספק אתרי חילופי אלקטרונים יעילים, חלקיקי כסף מופחתים מועדף לאורך משטחי AgNW , ולעטוף מעל צמתים חוט התיל כדי ליצור קשר יתאגד. תהליך ההלחמה כימי זה, עם זאת, צריך תהליך שטיפה כדי להסיר את הפתרונות שתגובה המוגזמת לאחר מכן. אחד צריך לשטוף את הסרטים הדקים ההלחמה AgNW לאט ובזהירות עקב ההידבקות הנמוכה בין AgNWs וזכוכית לפני הייבוש. לאחר השטיפה וייבוש, הסרטים הדקים AgNW יכולים להיותלהעביר בקלות לפו בשיטת יציקה והקליפה. עם עובש או מרווח על גבי הזכוכית, אפשר גם בקלות להתאים את עובי שכבות PU במוליכי המתיחה המורכב. מנצחי המתיחה מרוכבים להראות מוליכות חשמליות גדולות בתנאי מתח גבוהים ללא קשר לסכומים AgNWs תרסיס מצופה. כתוצאה מהמגעים בתקיפות הצטרפו nanowire, רשת AgNW נותרה בשלמותה בתנאי מתיחות ולספק נתיבי העברת אלקטרונים גדולים. כפי שניתן לראות בתרשים 5, ההתנגדויות וכו &#39;של מנצחי מתיחת unsoldered להגדיל במהירות כמו הזנים מיושמים להגדיל בגלל התארכות של המנצחים מובילה לפריקה של צמתים חוט תיל unsoldered ולהפחית את נתיבי מוליכים של רשת AgNW. מצד השני, ההתנגדויות וכו &#39;של מנצחי מתיחה מולחמים יישארו נמוכות כמו ~ 100 Ω / מ&quot;ר במתח גדול של 120%, המצביע על כך nanopar כסף מופחתticles אל לחשל הקשר בין AgNWs ולשפר את הקישוריות של AgNWs כדי למנוע פריקה של AgNW רשת. ברגע שרשת AgNW חלחלה יעילה נוצר, מנצחי מתיחה מרוכבים יכולים להפגין מוליכות גבוהות ללא קשר לסכומים שהופקדו AgNW. כפי שמעיד בעקומות התנגדות המתח באיור 5, מנצח המתיחה עם מחצית AgNW סכום (15 לעומת 30 מחזורי ריסוס) מראה כמעט זהה מוליכות החשמלית תחת מתיחת תהליך, מצביע על כך שהסכום של AgNWs יש השפעות זניחות על מוליכות לאחר כימי הַלחָמָה. כתוצאה מכך, כמות AgNW אפילו נמוכה יותר יכולה לשמש עוד התרסיס הראשוני סרטים דקים AgNW המצופים הם מוליך לפני תהליך ההלחמה הכימית. מנצחי המתיחה להראות יציבות מכאנית טובה למדי גם בזנים דינמיים גדולים עם קצב מהיר מתיחה. כפי שניתן לראות באיור 6, רשת רשת AgNW המולחם להישארשלם כאשר אחד חל מחזורי התארכות משולשים עם מתח גדול של עיוות 50%. לפיכך, ההתנגדות החשמלית של מוליך המתיחה נשארה כמעט ללא שינוי עם וריאציה קטנה מאוד של 5 ~ Ω / מ&quot;ר, אשר עולה בקנה אחד עם שינוי ההתנגדות (~ 4 Ω / מ&quot;ר) תחת לחץ סטטי של 50%. עם זאת, כאשר משרעת אפילו גדולה מתח (100%) מוחלת, וריאציה התנגדות גדולה הוא ציין, המצביע על שינויים מבניים בשלמות רשת AgNW בתהליך הפועם. הווריאציה ההתנגדות הדינמית היא הרבה יותר גדולה מזה במתיחה סטטית. בהשוואה לנתונים בתרשים 5, ההתנגדות סטטית היא כ -25 Ω / מ&quot;ר בזן 100% תוך ההתנגדות הדינמית היא 90 Ω / מ&quot;ר בשיא ראשון ומגבירה עד 400 Ω / מ&quot;ר בפעימה הדינמית. בזן הגדול של 100%, המדגם לא יכול לקיים את הלחץ הדינמי וחלק מבנה של רשת nanowire Ag המולחם עלולים להינזק, שמוביל לחוסר העקביות between התנגדות גיליון תחת זנים סטטי ודינמיים. יתר על כן, תוך מתיחה הופך כיוון, שבו התנגדות לשיא מתרחשת, האצת מהירות גדולה מידי מיושמת על ידי השלב הנייד ויכולה להוביל לנזקים מבניים נוספים, המשקפים בעליות בהתנגדויות השיא הדינמיות. חוץ מזה, חלקיו של ההבדל בהתנגדויות סטטי ודינמיות יכולים לבוא מנקעים זמניים אפשריים בין AgNWs ומצעי פו תחת זנים דינמיים. נקע אלה ניתן לשחזר, כפי שמעידים העובדה שההתנגדות חוזרת לערך המקורי לאחר הפסקת הפעימה. לכן, כדי להימנע מוריאצית התנגדות, צריך להעריך את ההידבקות ותאימות מכאנית בין AgNW רשת ומצעי אלסטי להיות בזהירות. מנצחי המתיחה יכולים לשמש כחיבורי אלסטי אידיאליים ביישומים רבים אלקטרוניים ישירות. איור 7 מציג את התצפית הדינמית כאשר stretמנצח Chable מחובר עם LED בסדרה. כשהוא מוזן במתח קבוע, הבהירות של אור LED נשארה כמעט ללא שינוי גם עם מתח עד 110%. מנצח מתיחה מרוכבים מסונתז זה יכול להיות מיושם בקלות בכל מכשירי חשמל כמו מסלולים מוליכים אלסטי. עם זאת, כדי לקדם את היישום במכשירים חשמליים אמיתיים, אחד הצרכים ממוזערים דפוסי אלקטרודה למעגלים מלאים. כך, במחקר נוסף על יצירת מעגלי מתיחה עם טכניקות הדפסה עדיין בעיצומו. לסיכום, עבודה זו מציגה שיטה פשוטה לפברק מנצחי מתיחה מאוד בטמפרטורות נמוכות. רשתות AgNW המולחמות כימי בPU יכולות להכיל זני אלסטי משמעותיים ולהציג מוליכות חשמליות מעולות, כמו גם יציבות מכאנית במתיחת תהליך. יתר על כן, המנצחים מולחמים כימי להראות הופעות חשמליות ומכאניות כמעט זהות ללא קשר לכמות של AgNWs, אניndicating הפחתה אפשרית בפסולת חומרית. אנו מאמינים כי חומר מנצח מתיחה זו יכול לשמש ישירות חיבורים יעילים כמו בהתקנים אופטו לביש ומתיחים, כגון תאי LED ושמש, לאלקטרוניקת הדור הבא.

מכשירים אלקטרוניים לעיוותים עם להימתח גדול זוהו כחלקים קריטיים למימוש אלקטרוניקה לביש ונייד בדור הבא. 1 אלה מכשירים אלקטרוני המתיחה להראות לא רק גמישות רבה כמכשירים אלקטרוניים אלה על יריעות פלסטיק, 2, 3, אלא גם מפגינים מצוין ביצועים בתנאי מתיחה או מתפתלים חמורים. 4 כדי לממש את האלקטרוניקה המתיחה, יש צורך בחומרים עם ביצועים חשמליים גדולים תחת עיוות גדולה. הפיתוחים אחרונים במדעי חומר הראו את האפשרות לסנתז חומרים תפקודיים כגון והשתמש בהם לעיצוב התקני אופטו מתיחת 5-9 עם סובלנות רבה לעיוותי צורה מורכבות. בין כל החומרים תפקודיים האלקטרוניים, מנצחי מתיחה נחוצים כדי לספק חשמל להתקני אופטו אלה ובכך הם בעלי חשיבות קריטית לביצועי מכשיר.בגלל חומרים מוליכים רגילים, כמו מתכת או תחמוצת אינדיום בדיל, חוסר החוסן מכאני תחת עיוות גדולה, חיבורים עשויים מחומרים אלה אינם מסוגלים להציג מוליכות חשמלית טובות תחת מתיחת תהליך. לפיכך, מצעי אלסטי מכוסים בשכבה דקה של חומרים מוליכים גמישים, כגון ננו-צינורות פחמן, גראפן 1, 10 או AgNWs, 11-14 מיועדים למנצחים עם להימתח מצוין. בגלל המוליכות גבוהות בתפזורת, סרטים דקים AgNW הוכחו להיות החומר המבטיח ביותר למנצחי מתיחה מורכבים. 13 רשתות חלחלו של סרטים דקים AgNW יעילות יכולה להכיל עיוותים אלסטיים גדולות במתיחת תהליך עם מוליכות חשמליות גדולות, והם נחשבים כ מועמד אלקטרודה מתיחה מבטיח. כדי ליישם סרטים דקים AgNW כמנצחי מתיחה, יש צורך יש לי מגעים חשמליים יעילים בין AgNWs. לאחר תצהיר נוזליייבוש ד על משטחי מצע, AgNWs מחסנית באופן קבוע יחד כדי ליצור רשת חלחלה עם נקודות מגע רופפות, שתנבנה בהתנגדויות חשמליות גדולות. לפיכך, אחד צריך לחשל את מגעים בין ננו-חוטים בטמפרטורה גבוהה או בלחץ גבוה שיטות חישול 15-20 להפחית את ההתנגדויות ליצירת קשר. בניגוד לתהליכי חישול אלה בספרות, כאן, נדגים שיטה כימית פשוטה כדי לחשל AgNW חיבורי רשת בתנאי מעבדה רגילים. 21 תהליך הייצור מוצג באיור 4 א. דיו תגובתי משמש לדבקוק תרסיס סרטים דקים AgNW מצופים על צלחת זכוכית. לאחר תגובה, הקשר בין ננו-חוטים מכוסים בכסף ולכן רשת AgNW היא מולחם כימית יחד. שיטה יצוקה וקליפה משמשת אז כדי להעביר את רשת AgNW המולחם למצע פו מתיחה כדי ליצור מנצח מורכב, אשר יכול להציג שום שינוי ברור שמוליכות חשמלית n אפילו בזן מתיחה גדול של 120%.

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" width="833">
	<tbody>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:173px;">Silver nanowire</td>
			<td style="width:195px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td style="width:117px;">778095-25ML</td>
			<td style="width:349px;">AgNW, 120 nm in diameter and 20-50 mm in length, 0.5 wt% in IPA</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Silver nitrate crystal</td>
			<td>Macron Fine Chemicals</td>
			<td>MK216903</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Diethanolamine</td>
			<td>Sigma-Aldrich</td>
			<td>D8885-500G</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Polyurethane emulsion</td>
			<td>First Chemical</td>
			<td>20130326036</td>
			<td>35 wt% water-based anionic polyester-polyurethane emulsion</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Airbrush</td>
			<td>Taiwan Airbrush &#38; Equipment</td>
			<td>AFC-sensor&#160;</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Desktop robot</td>
			<td>Dispenser Tech</td>
			<td>DT-200&#160;</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Digital dispenser controller</td>
			<td>Dispenser Tech</td>
			<td>9000E&#160;</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:173px;">Auto-spraying program</td>
			<td style="width:195px;">Dispenser Tech</td>
			<td style="width:117px;">Smart robot edit version 3.0.0.5</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Air compressor&#160;</td>
			<td>PUMA Industrial</td>
			<td>NCS-10&#160;</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Linear motorized stage</td>
			<td>TANLIAN E-O</td>
			<td>Customized</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:173px;">Stage control software</td>
			<td style="width:195px;">TANLIAN E-O</td>
			<td style="width:117px;">Customized</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Digital multimeter</td>
			<td>HILA INTERNATIONAL</td>
			<td>DM-2690TU</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:173px;">Digital multimeter software</td>
			<td style="width:195px;">HILA INTERNATIONAL</td>
			<td style="width:117px;">NA</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Power supply</td>
			<td>CHERN TAIH</td>
			<td>CT-605</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">LED</td>
			<td>PChome</td>
			<td>M08330766</td>
			<td>http://www.pcstore.com.tw/sun-flower/M08330766.htm</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

a fabrication method for highly stretchable conductors with silver nanowires

האלקטרוניקה stretchable מזוהות כטכנולוגיה מפתח ליישומים אלקטרוניים בדור הבא. אחד האתגרים בייצור של מכשירים אלקטרוניים מתיחה היא ההכנה של מנצחי מתיחה עם יציבות מכאנית גדולה. במחקר זה, שפיתחנו שיטת ייצור פשוטה להלחמה כימית נקודות המגע בין nanowire כסף רשתות (AgNW). nanomesh AgNW הופקד ראשון בשקופית זכוכית באמצעות שיטת ציפוי תרסיס. דיו תגובה המורכב מחלקיק כסף מבשרים (AgNPs) יושם על התרסיס מצופה סרטים דקים AgNW. לאחר החימום במשך 40 דקות, AgNPs נוצרו מועדף על צמתים nanowire לרתך nanomesh AgNW, וחיזק את רשת הניצוח. הסרט הדק AgNW שינוי כימי שהועבר לאחר מכן לפוליאוריטן (PU) מצעים ידי יציקת שיטה. הסרטים הדקים AgNW מולחמים על פו הציגו שום שינוי ברור במוליכות חשמליות במתיחה או רולןתהליך גרם עם התארכות זנים עד 120%.

המורפולוגיה של הסרט הדק AgNW לאחר תהליך הלחמה כימי מוצגת באיור 4. AgNPs התאושש לגדול באופן מועדף על פני השטח של AgNWs ולעטוף מעל צמתים חוט / חוט. איור 5 מראה את השינוי בהתנגדות גיליון עם זני התארכות שימושיים לunsoldered והסרטים הדקים המולחמות המכילים כמות AgNWs שונה. לאחר תהליך ההלחמה הכימי, מנצחי סרט דק AgNW יכולים לשמור על מוליכות גבוהות בתנאי מתח גבוהים, ללא קשר לכמות ריססה של AgNWs. שני סרטים הדקים AgNW המולחם להראות התנגדות גיליון מתחת ל -100 Ω / מ&quot;ר כאשר זנים להלן 120% מיושמים. הסרטים הדקים מרוכבים ביצוע המתיחה להראות יציבות מכאנית גדולה בתהליך עיוות דינמי. איור 6 מציג את וריאציות ההתנגדות של מנצח המתיחה תחת מחזורי התארכות של צורת גל משולשת בשיעור מתח מהיר של 0<html> .05 שניות -1. אין שינוי התנגדות ברור הוא ציין עם משרעת מתח של 50%. 7 כאשר עליות משרעת מתח 100 מתח%, התנגדות השיא מגדילה את מספר מחזורי הפעימה, וההתנגדות של תשואות סרט לערך המקורי לאחר הפסקת הפעימה. איור מדגים יישום אלקטרוני של הסרטים הדקים מולחמים כימי . <img alt="איור 1" src="/files/ftp_upload/53623/53623fig1.jpg" /> איור 1. צילום מסך של תוכנת שליטת רובוט. <a href="https://www-jove-com.remotexs.ntu.edu.sg/files/ftp_upload/53623/53623fig1large.jpg" target="_blank">אנא לחץ כאן כדי לצפות בגרסה גדולה יותר של דמות זו.</a> <img alt="איור 2" src="/files/ftp_upload/53623/53623fig2.jpg" /> איור 2. מתיחת תצורת מכשיר.<html> &quot;Target =&quot; _ ve.com/files/ftp_upload/53623/53623fig2large.jpg blank &quot;&gt; לחץ כאן כדי לצפות בגרסה גדולה יותר של דמות זו. <img alt="איור 3" src="/files/ftp_upload/53623/53623fig3.jpg" /> איור 3. צילום מסך של תוכנת שליטת שלב. <a href="https://www-jove-com.remotexs.ntu.edu.sg/files/ftp_upload/53623/53623fig3large.jpg" target="_blank">אנא לחץ כאן כדי לצפות בגרסה גדולה יותר של דמות זו.</a> <img alt="איור 4" src="/files/ftp_upload/53623/53623fig4.jpg" /> איור 4. תרשים סכמטי של תהליך ייצור למוליכי מתכת מתיחה ומוליך מאוד. () הדגימות מוכנות כפי שצוינו באיור. תמונות (ב) SEM של סרט דק-מולחם כימי AgNW לפני שהועבר למצע פו.<html> &quot;Target =&quot; _ 53623fig4large.jpg blank &quot;&gt; לחץ כאן כדי לצפות בגרסה גדולה יותר של דמות זו. <img alt="איור 5" src="/files/ftp_upload/53623/53623fig5.jpg" /> איור 5. מבחן מתיחה. השוואה של התנגדויות חשמליות של סרטים דקים unsoldered והמולחמים AgNW עם AgNW ריסס שונים מסתכמת בתנאי מתיחה. <a href="https://www-jove-com.remotexs.ntu.edu.sg/files/ftp_upload/53623/53623fig5large.jpg" target="_blank">אנא לחץ כאן כדי לצפות בגרסה גדולה יותר של דמות זו.</a> <img alt="איור 6" src="/files/ftp_upload/53623/53623fig6.jpg" /> איור 6. בדיקת יציבות. פרופילי תגובת התנגדות של מתיחת סרטים תחת מחזורי התארכות של צורת גל משולשת. שיעור המתח הפועם הוא 10 שניות -1. המדגם שנבדק עשוי משכבות דקות AgNW עם 15 מחזורי ריסוס.s / ftp_upload / 53,623 53623fig6large.jpg &quot;target =&quot; / _ blank &quot;&gt; לחץ כאן כדי לצפות בגרסה גדולה יותר של דמות זו. <img alt="איור 7" src="/files/ftp_upload/53623/53623fig7.jpg" /> איור 7. וידאו של הנורית מחוברת עם מנצח מתיחה בתנאי לחץ שונים. שינוי הבהירות של LED שנגרם על ידי המנצח המתוח מוצג באיור. מדגם הבדיקה עשוי משכבות דקות AgNW עם 15 מחזורי ריסוס. <a href="https://www-jove-com.remotexs.ntu.edu.sg/files/ftp_upload/53623/Figure7.mp4">(לחץ לחיצה ימנית כדי להוריד)</a>

Watch this Scientific Journal Video about A Fabrication Method for Highly Stretchable Conductors with Silver Nanowires at JoVE.com

A Fabrication Method for Highly Stretchable Conductors with Silver Nanowires

A simple synthesis method is used to chemically solder silver nanowire thin film to fabricate highly stretchable and conductive metal conductors.

שיטת ייצור למוליכים מאוד מתיחה עם Nanowires הכסף

Stretchable electronics are identified as a key technology for electronic applications in the next generation. One of the challenges in fabrication of ...

a-fabrication-method-for-highly-stretchable-conductors-with-silver

Nanyang Technological University

Research

Education

JoVE Journal

JoVE Core

Engineering

Physics

Unit 1

Gauss's Law

Equilibrium and Elasticity

SCIENTISTS IN ACTION

9.8K Views.  National Taiwan University. A simple synthesis method is used to chemically solder silver nanowire thin film to fabricate highly stretchable and conductive metal conductors.

Video: A Fabrication Method for Highly Stretchable Conductors with Silver Nanowires

A Method to Fabricate Disconnected Silver Nanostructures in 3D

The standard nanofabrication toolkit includes techniques primarily aimed at creating 2D patterns in dielectric media. Creating metal patterns on a submicron scale requires a combination of nanofabrication tools and several material processing steps. For example, steps to create planar metal structures using ultraviolet photolithography and electron-beam lithography can include sample exposure, sample development, metal deposition, and metal liftoff. To create 3D metal structures, the sequence is repeated multiple times. The complexity and difficulty of stacking and aligning multiple layers limits practical implementations of 3D metal structuring using standard nanofabrication tools. Femtosecond-laser direct-writing has emerged as a pre-eminent technique for 3D nanofabrication.1,2 Femtosecond lasers are frequently used to create 3D patterns in polymers and glasses.3-7 However, 3D metal direct-writing remains a challenge. Here, we describe a method to fabricate silver nanostructures embedded inside a polymer matrix using a femtosecond laser centered at 800 nm. The method enables the fabrication of patterns not feasible using other techniques, such as 3D arrays of disconnected silver voxels.8 Disconnected 3D metal patterns are useful for metamaterials where unit cells are not in contact with each other,9 such as coupled metal dot10,11or coupled metal rod12,13 resonators. Potential applications include negative index metamaterials, invisibility cloaks, and perfect lenses.
In femtosecond-laser direct-writing, the laser wavelength is chosen such that photons are not linearly absorbed in the target medium. When the laser pulse duration is compressed to the femtosecond time scale and the radiation is tightly focused inside the target, the extremely high intensity induces nonlinear absorption. Multiple photons are absorbed simultaneously to cause electronic transitions that lead to material modification within the focused region. Using this approach, one can form structures in the bulk of a material rather than on its surface.
Most work on 3D direct metal writing has focused on creating self-supported metal structures.14-16 The method described here yields sub-micrometer silver structures that do not need to be self-supported because they are embedded inside a matrix. A doped polymer matrix is prepared using a mixture of silver nitrate (AgNO3), polyvinylpyrrolidone (PVP) and water (H2O). Samples are then patterned by irradiation with an 11-MHz femtosecond laser producing 50-fs pulses. During irradiation, photoreduction of silver ions is induced through nonlinear absorption, creating an aggregate of silver nanoparticles in the focal region. Using this approach we create silver patterns embedded in a doped PVP matrix. Adding 3D translation of the sample extends the patterning to three dimensions.

Femtosecond-laser direct-writing is frequently used to create three-dimensional (3D) patterns in polymers and glasses. However, patterning metals in 3D remains a challenge. We describe a method for fabricating silver nanostructures embedded inside a polymer matrix using a femtosecond laser centered at 800 nm.

שיטה לפברק ננו כסף המנותק ב-3D

The standard nanofabrication toolkit includes  techniques primarily aimed at creating 2D patterns in dielectric media. Creating  metal patterns on a ...

Monolayer Contact Doping of Silicon Surfaces and Nanowires Using Organophosphorus Compounds

Monolayer Contact Doping (MLCD) is a simple method for doping of surfaces and nanostructures1. MLCD results in the formation of highly controlled, ultra shallow and sharp doping profiles at the nanometer scale. In MLCD process the dopant source is a monolayer containing dopant atoms.
In this article a detailed procedure for surface doping of silicon substrate as well as silicon nanowires is demonstrated. Phosphorus dopant source was formed using tetraethyl methylenediphosphonate monolayer on a silicon substrate. This monolayer containing substrate was brought to contact with a pristine intrinsic silicon target substrate and annealed while in contact. Sheet resistance of the target substrate was measured using 4 point probe. Intrinsic silicon nanowires were synthesized by chemical vapor deposition (CVD) process using a vapor-liquid-solid (VLS) mechanism; gold nanoparticles were used as catalyst for nanowire growth. The nanowires were suspended in ethanol by mild sonication. This suspension was used to dropcast the nanowires on silicon substrate with a silicon nitride dielectric top layer. These nanowires were doped with phosphorus in similar manner as used for the intrinsic silicon wafer. Standard photolithography process was used to fabricate metal electrodes for the formation of nanowire based field effect transistor (NW-FET). The electrical properties of a representative nanowire device were measured by a semiconductor device analyzer and a probe station.

A detailed procedure for surface doping of Silicon interfaces is provided. The ultra-shallow surface doping is demonstrated by using phosphorus containing monolayers and rapid annealing process. The method can be used for doping of macroscopic area surfaces as well as nanostructures.

חד שכבתי לתקשר סימום של משטחי סיליקון וNanowires שימוש בתרכובות זרחן אורגניות

Monolayer Contact Doping (MLCD) is a simple method for doping of surfaces and nanostructures1. MLCD results in the formation of highly controlled, ultra ...

Evaluating Plasmonic Transport in Current-carrying Silver Nanowires

Plasmonics is an emerging technology capable of simultaneously transporting a plasmonic signal and an electronic signal on the same information support1,2,3. In this context, metal nanowires are especially desirable for realizing dense routing networks4. A prerequisite to operate such shared nanowire-based platform relies on our ability to electrically contact individual metal nanowires and efficiently excite surface plasmon polaritons5 in this information support. In this article, we describe a protocol to bring electrical terminals to chemically-synthesized silver nanowires6 randomly distributed on a glass substrate7. The positions of the nanowire ends with respect to predefined landmarks are precisely located using standard optical transmission microscopy before encapsulation in an electron-sensitive resist. Trenches representing the electrode layout are subsequently designed by electron-beam lithography. Metal electrodes are then fabricated by thermally evaporating a Cr/Au layer followed by a chemical lift-off. The contacted silver nanowires are finally transferred to a leakage radiation microscope for surface plasmon excitation and characterization8,9. Surface plasmons are launched in the nanowires by focusing a near infrared laser beam on a diffraction-limited spot overlapping one nanowire extremity5,9. For sufficiently large nanowires, the surface plasmon mode leaks into the glass substrate9,10. This leakage radiation is readily detected, imaged, and analyzed in the different conjugate planes in leakage radiation microscopy9,11. The electrical terminals do not affect the plasmon propagation. However, a current-induced morphological deterioration of the nanowire drastically degrades the flow of surface plasmons. The combination of surface plasmon leakage radiation microscopy with a simultaneous analysis of the nanowire electrical transport characteristics reveals the intrinsic limitations of such plasmonic circuitry.

Silver nanowires can simultaneously transport electrons and optical information in the form of surface plasmons. A procedure is described here to realize such a shared circuitry and the limitations at propagating both information carriers are evaluated.

Plasmonics is an emerging technology capable of simultaneously transporting a plasmonic signal and an electronic signal on the same information ...

Preparation and Use of Photocatalytically Active Segmented Ag|ZnO and Coaxial TiO2-Ag Nanowires Made by Templated Electrodeposition

Photocatalytically active nanostructures require a large specific surface area with the presence of many catalytically active sites for the oxidation and reduction half reactions, and fast electron (hole) diffusion and charge separation. Nanowires present suitable architectures to meet these requirements. Axially segmented Ag|ZnO and radially segmented (coaxial) TiO2-Ag nanowires with a diameter of 200 nm and a length of 6-20 &#181;m were made by templated electrodeposition within the pores of polycarbonate track-etched (PCTE) or anodized aluminum oxide (AAO) membranes, respectively. In the photocatalytic experiments, the ZnO and TiO2 phases acted as photoanodes, and Ag as cathode. No external circuit is needed to connect both electrodes, which is a key advantage over conventional photo-electrochemical cells. For making segmented Ag|ZnO nanowires, the Ag salt electrolyte was replaced after formation of the Ag segment to form a ZnO segment attached to the Ag segment. For making coaxial TiO2-Ag nanowires, a TiO2 gel was first formed by the electrochemically induced sol-gel method. Drying and thermal annealing of the as-formed TiO2 gel resulted in the formation of crystalline TiO2 nanotubes. A subsequent Ag electrodeposition step inside the TiO2 nanotubes resulted in formation of coaxial TiO2-Ag nanowires. Due to the combination of an n-type semiconductor (ZnO or TiO2) and a metal (Ag) within the same nanowire, a Schottky barrier was created at the interface between the phases. To demonstrate the photocatalytic activity of these nanowires, the Ag|ZnO nanowires were used in a photocatalytic experiment in which H2 gas was detected upon UV illumination of the nanowires dispersed in a methanol/water mixture. After 17 min&#160;of illumination, approximately 0.2 vol% H2 gas was detected from a suspension of ~0.1 g of Ag|ZnO nanowires in a 50 ml 80 vol% aqueous methanol solution.

Preparation and Use of Photocatalytically Active Segmented Ag|ZnO and Coaxial TiO2-Ag Nanowires Made by Templated Electrodeposition

Procedures are outlined to prepare segmented and coaxial nanowires via templated electrodeposition in nanopores. As examples, segmented nanowires consisting of Ag and ZnO segments, and coaxial nanowires consisting of a TiO2 shell and a Ag core were made. The nanowires were used in photocatalytic hydrogen formation experiments.

אופן ההכנה ושימוש בPhotocatalytically פעיל מקוטע Ag | ZnO וקואקסיאלי טיו<sub&gt; 2</sub&gt;-Ag Nanowires Made by Templated Electrodeposition

Photocatalytically active nanostructures require a large specific surface area with the presence of many catalytically active sites for the oxidation and ...

Atomically Traceable Nanostructure Fabrication

Reducing the scale of etched nanostructures below the 10 nm range eventually will require an atomic scale understanding of the entire fabrication process being used in order to maintain exquisite control over both feature size and feature density. Here, we demonstrate a method for tracking atomically resolved and controlled structures from initial template definition through final nanostructure metrology, opening up a pathway for top-down atomic control over nanofabrication. Hydrogen depassivation lithography is the first step of the nanoscale fabrication process followed by selective atomic layer deposition of up to 2.8 nm of titania to make a nanoscale etch mask. Contrast with the background is shown, indicating different mechanisms for growth on the desired patterns and on the H passivated background. The patterns are then transferred into the bulk using reactive ion etching to form 20 nm tall nanostructures with linewidths down to ~6 nm. To illustrate the limitations of this process, arrays of holes and lines are fabricated. The various nanofabrication process steps are performed at disparate locations, so process integration is discussed. Related issues are discussed including using fiducial marks for finding nanostructures on a macroscopic sample and protecting the chemically reactive patterned Si(100)-H surface against degradation due to atmospheric exposure.

We report a protocol for combining the atomic metrology of the Scanning Tunneling Microscope for surface patterning with selective Atomic Layer Deposition and Reactive Ion Etching. Using a robust process involving numerous atmospheric exposures and transport, 3D nanostructures with atomic metrology are fabricated.

ייצור ננו-מבנה אטומי למעקב

Reducing the scale of etched nanostructures below the 10 nm range eventually will require an atomic scale understanding of the entire fabrication process ...

Fabrication Process of Silicone-based Dielectric Elastomer Actuators

This contribution demonstrates the fabrication process of dielectric elastomer transducers (DETs). DETs are stretchable capacitors consisting of an elastomeric dielectric membrane sandwiched between two compliant electrodes. The large actuation strains of these transducers when used as actuators (over 300% area strain) and their soft and compliant nature has been exploited for a wide range of applications, including electrically tunable optics, haptic feedback devices, wave-energy harvesting, deformable cell-culture devices, compliant grippers, and propulsion of a bio-inspired fish-like airship. In most cases, DETs are made with a commercial proprietary acrylic elastomer and with hand-applied electrodes of carbon powder or carbon grease. This combination leads to non-reproducible and slow actuators exhibiting viscoelastic creep and a short lifetime. We present here a complete process flow for the reproducible fabrication of DETs based on thin elastomeric silicone films, including casting of thin silicone membranes, membrane release and prestretching, patterning of robust compliant electrodes, assembly and testing. The membranes are cast on flexible polyethylene terephthalate (PET) substrates coated with a water-soluble sacrificial layer for ease of release. The electrodes consist of carbon black particles dispersed into a silicone matrix and patterned using a stamping technique, which leads to precisely-defined compliant electrodes that present a high adhesion to the dielectric membrane on which they are applied.

This manuscript shows the fabrication process for the manufacture of dielectric elastomer soft actuators based on silicone membranes. The three key stages of production are presented in detail: blade casting of thin silicone membranes; pad printing of compliant electrodes; and the assembly of all the components.

תהליך ייצור של מפעילי אלסטומר דיאלקטרי מבוסס סיליקון

This contribution demonstrates the fabrication process of dielectric elastomer transducers (DETs). DETs are stretchable capacitors consisting of an ...

Solvent Bonding for Fabrication of PMMA and COP Microfluidic Devices

Thermoplastic microfluidic devices offer many advantages over those made from silicone elastomers, but bonding procedures must be developed for each thermoplastic of interest. Solvent bonding is a simple and versatile method that can be used to fabricate devices from a variety of plastics. An appropriate solvent is added between two device layers to be bonded, and heat and pressure are applied to the device to facilitate the bonding. By using an appropriate combination of solvent, plastic, heat, and pressure, the device can be sealed with a high quality bond, characterized as having high bond coverage, bond strength, optical clarity, durability over time, and low deformation or damage to microfeature geometry. We describe the procedure for bonding devices made from two popular thermoplastics, poly(methyl-methacrylate) (PMMA), and cyclo-olefin polymer (COP), as well as a variety of methods to characterize the quality of the resulting bonds, and strategies to troubleshoot low quality bonds. These methods can be used to develop new solvent bonding protocols for other plastic-solvent systems.

Solvent bonding is a simple and versatile method for fabricating thermoplastic microfluidic devices with high quality bonds. We describe a protocol to achieve strong, optically clear bonds in PMMA and COP microfluidic devices that preserve microfeature details, by a judicious combination of pressure, temperature, an appropriate solvent, and device geometry.

מליטה מרככת עבור ייצור של PMMA ו COP מכשירי microfluidic

Thermoplastic microfluidic devices offer many advantages over those made from silicone elastomers, but bonding procedures must be developed for each ...

Challenges in Rheological Characterization of Highly Concentrated Suspensions &#8212; A Case Study for Screen-printing Silver Pastes

A comprehensive rheological characterization of highly concentrated suspensions or pastes is mandatory for a targeted product development meeting the manifold requirements during processing and application of such complex fluids. In this investigation, measuring protocols for a conclusive assessment of different process relevant rheological parameters have been evaluated. This includes the determination of yield stress, viscosity, wall slip velocity, structural recovery after large deformation and elongation at break as well as tensile force during filament stretching.
The importance of concomitant video recordings during parallel-plate rotational rheometry for a significant determination of rheological quantities is demonstrated. The deformation profile and flow field at the sample edge can be determined using appropriate markers. Thus, measurement parameter settings and plate roughness values can be identified for which yield stress and viscosity measurements are possible. Slip velocity can be measured directly and measuring conditions at which plug flow, shear banding or sample spillover occur can be identified clearly. 
Video recordings further confirm that the change in shear moduli observed during three stage oscillatory shear tests with small deformation amplitude in stage I and III but large oscillation amplitude in stage II can be directly attributed to structural break down and recovery. For the pastes investigated here, the degree of irreversible, shear-induced structural change increases with increasing deformation amplitude in stage II until a saturation is reached at deformations corresponding to the crossover of G' and G'', but the irreversible damage is independent of the duration of large amplitude shear. 
A capillary breakup elongational rheometer and a tensile tester have been used to characterize deformation and breakup behavior of highly filled pastes in uniaxial elongation. Significant differences were observed in all experiments described above for two commercial screen-printing silver pastes used for front side metallization of Si-solar cells.

A protocol for a robust and application relevant rheological characterization of highly concentrated suspensions is presented. Silver pastes used for screen-printing application in solar cell production are employed as model systems.

אתגרים ראולוגיות אפיון השעיות מרוכזות מאוד - מקרה עבור משחות כסף הדפסת מסך

A comprehensive rheological characterization of highly concentrated suspensions or pastes is mandatory for a targeted product development meeting the ...

Fabrication of Ultra-thin Color Films with Highly Absorbing Media Using Oblique Angle Deposition

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present an advanced method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics. The proposed process addresses several fabrication issues, including large area processing. Specifically, the protocol describes a process for fabricating ultra-thin color films using an electron beam evaporator for oblique angle deposition of germanium (Ge) and gold (Au) on silicon (Si) substrates.&#160; Film porosity produced by the oblique angle deposition induces color changes in the ultra-thin film. The degree of color change depends on factors such as deposition angle and film thickness. Fabricated samples of the ultra-thin color films showed improved color tunability and color purity. In addition, the measured reflectance of the fabricated samples was converted into chromatic values and analyzed in terms of color. Our ultra-thin film fabricating method is expected to be used for various ultra-thin film applications such as flexible color electrodes, thin film solar cells, and optical filters. Also, the process developed here for analyzing the color of the fabricated samples is broadly useful for studying various color structures.

We present a detailed method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics for optical coatings. The oblique angle deposition technique using an electron beam evaporator allows improved color tunability and purity. Fabricated films of Ge and Au on Si substrates were analyzed by reflectance measurements and color information conversion.

ייצור של סרטים צבע דקים עם מאוד קליטת מדיה באמצעות התצהיר זווית אלכסונית

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present ...

Flow-assisted Dielectrophoresis: A Low Cost Method for the Fabrication of High Performance Solution-processable Nanowire Devices

Flow-assisted dielectrophoresis (DEP) is an efficient self-assembly method for the controllable and reproducible positioning, alignment, and selection of nanowires. DEP is used for nanowire analysis, characterization, and for solution-based fabrication of semiconducting devices. The method works by applying an alternating electric field between metallic electrodes. The nanowire formulation is then dropped onto the electrodes which are on an inclined surface to create a flow of the formulation using gravity. The nanowires then align along the gradient of the electric field and in the direction of the liquid flow. The frequency of the field can be adjusted to select nanowires with superior conductivity and lower trap density. 
In this work, flow-assisted DEP is used to create nanowire field effect transistors. Flow-assisted DEP has several advantages: it allows selection of nanowire electrical properties; control of nanowire length; placement of nanowires in specific areas; control of orientation of nanowires; and control of nanowire density in the device. 
The technique can be expanded to many other applications such as gas sensors and microwave switches. The technique is efficient, quick, reproducible, and it uses a minimal amount of dilute solution making it ideal for the testing of novel nanomaterials. Wafer scale assembly of nanowire devices can also be achieved using this technique, allowing large numbers of samples for testing and large-area electronic applications.

In this paper, flow assisted dielectrophoresis is demonstrated for the self-assembly of nanowire devices. The fabrication of a silicon nanowire field effect transistor is shown as an example.

בסיוע זרימת Dielectrophoresis: שיטה בעלות נמוכה עבור הזיוף של התקני ננו-חוט processable-פתרון ביצועים גבוהים

Flow-assisted dielectrophoresis (DEP) is an efficient self-assembly method for the controllable and reproducible positioning, alignment, and selection of ...