基于溶液沉积的高效OLED开发

以有效的方式专注于印刷电子领域的新重要领域，特别是针对操作系统，为真正针对螺栓机概念优化的工艺开辟了可能性。操作系统润滑的简单性在简单的设备架构和有用的效率之间取得了很好的权衡，这是一个巨大的技术问题。主要问题除了正确选择主机掌握指标、成分、浓度、溶剂等外，还可以集中分为三个方面，自旋编码位置、溶剂制备和电荷的电平衡。

通过溶液持久工艺进行润滑似乎很简单，因为它的器件纤维含量很高。制造过程中的一些关键方面需要 35。首先准备主机矩阵。

将15毫克OXD7加入小瓶中。然后加入五毫克PVK。然后将10毫克2PXZOXDTADF发射器加入另一个小瓶中。

向装有宿主基质的小瓶中加入两毫升氯苯，在装有TADF材料的小瓶中加入一毫升氯苯。两个小瓶中氯苯的最终浓度应为每毫升10毫克。用清洁的小磁力搅拌棒搅拌溶液至少三个小时，直到材料完全溶解。

确保小瓶被相应的盖子安全地覆盖，并用有机化学安全膜密封，以避免溶剂蒸发。在含有1%hellmanex溶液的超声波浴中依次清洁预先图案化的印度氧化锡或ITO基材，在95摄氏度的水中，然后在室温下丙酮，然后在室温下至丙醇，每次浴15分钟。用镊子处理基材，只在角落接触它们。

尝试用氮气助焊剂去除基材，以去除任何清洁溶剂残留物。然后将基材暴露在紫外线臭氧处理下五分钟，ITO膜朝上。用0.45微米聚偏二氟乙烯过滤器过滤PEDOT:PSS，并在微量移液器中填充100微升溶液。

小心地将基材放在旋转打码车上并激活真空系统以固定它。将ITO面朝上旋转，并尽可能使基板区域居中。将旋涂的参数设置为 3， 000 RPM，持续 30 秒。

在低旋转时设置两到三秒的初始步长。保持微量移液器垂直于基板，将PEDOT:PSS放在基板中间并启动旋转编码器。自旋编码完成后，关闭真空并用镊子取出基板。

使用浸泡在水中的小棉签去除阴极和基板角落区域周围的多余沉积薄膜，保持中心像素区域不变。将基质在烤箱或120摄氏度的热板上孵育15分钟以除去PEDOT:PSS溶剂，然后将其转移到手套箱中并在室温下冷却。为了制备沉浸式层的溶液，将1.8毫升的宿主溶液和0.2毫升的TADF溶液混合在一个干净的小瓶中。

用0.1微米PTFE过滤器过滤溶液，然后在室温下搅拌15分钟。按照前面描述的程序将第二种溶液与自旋编码器以 2， 000 RPM 旋转 60 秒。使用浸泡在氯苯中的棉签去除第二层薄膜的任何多余部分。

将基材放在手套箱内的热板上，在70摄氏度下放置30分钟，以完全去除多余的氯苯。然后让它在室温下冷却。使用所需的蒸发掩模将基板插入样品架，确保薄膜朝下。

包括必要的坩埚，并用适当的材料填充它们。将装有样品的底物支架放入蒸发器样品架中。关闭腔室并将其向下泵送，确保遵循制造商对特定蒸发器系统的说明。

蒸发40纳米的TNPYPB薄膜，然后蒸发两纳米的氟化锂薄膜，最后蒸发100纳米的铝膜。此处显示了制造 LED 的特性。导通电压极低，约为 3 伏，对于双有机层器件来说，这是一个有趣的结果。

最大亮度约为每平方米8， 000坎德拉，不使用积分球。电流效率、功率效率和外部量子效率的最大值分别约为每安培16坎德拉、每瓦10流明和8%。设备结构简单性和可靠性之间的良好权衡 应断言 最好的信息 在所有方面没有缺陷 特别重要的是，金属概念可以扩展到不同类型的参数，例如有机和无机材料。

虽然我们特别特殊，但主要思想是