JoVE Journal

Engineering

Masz pełny dostęp do tej treści za pośrednictwem

Nanyang Technological University

Light Enhanced Hydrofluoric Acid Passivation: A Sensitive Technique for Detecting Bulk Silicon Defects

9.2K Views

09:15 min

January 4th, 2016

January 4th, 2016


A RT liquid surface passivation technique to investigate the recombination activity of bulk silicon defects is described. For the technique to be successful, three critical steps are required: (i) chemical cleaning and etching of silicon, (ii) immersion of silicon in 15% hydrofluoric acid and (iii) illumination for 1 min.

Używamy plików cookie, aby ulepszyć Twoje wrażenia z korzystania z naszej witryny.

Kontynuując korzystanie z naszej witryny lub klikając „Kontynuuj”, wyrażasz zgodę na akceptację naszych plików cookie.