El uso de nanopartículas de sacrificio para eliminar los efectos del ruido de disparo en orificios de contacto fabricadas por haz de electrones de litografía

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07:47 min

•

February 12th, 2017

DOI :

10.3791/54551-v

February 12th, 2017

•

Shankar B. Rananavare¹, Moshood K. Morakinyo²

¹Department of Chemistry, Portland State University, ²Logic Technology Department, Intel Corporation

Resumen

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Ingenier a

No 120

E beam litograf a EUV

canalizaci n electrost tica

se resisten a reflujo

grabado por plasma

Capítulos en este video

0:05

Title

2:14

Gold Nanoparticle (GNP) Deposition into E-beam-patterned Holes

1:20

Derivatization and Characterization of Silicon Wafer Surfaces

3:46

Pol(methyl methacrylate) (PMMA) Photoresist Reflow and Dry- and Wet-etching

4:50

Results: Reduction of Shot-noise by Deposition and Subsequent Etching of Sacrificial GNPs

6:29

Conclusion

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