Grafen Destekli Quasi-van der Waals Epitaxy AlN Film Nano-Desenli Safir Substrat ultraviyole Işık Yayan Diyotlar için

Grafen tabakası ile nano desenli safir substrat alüminyum nitritler için bu yeni protokol yüksek performanslı derin ultraviyole LED'ler hızlı ve ucuz nesil için kullanılabilir. Alüminyum nitrür şablonu olarak di-eel grafen kullanarak, alüminyum uygulamada büyüme potansiyelini gösterir, galyum nitrit bazlı LED'ler. Başlamak için, aseton, etanol ve deiyonize su ile NPSS durulayın üç kez.

NPSS'i de nitrojen tabancasıyla kurutun. NPSS'i uzun düz sıcaklık bölgesine sahip üç bölgeli, yüksek sıcaklıklı bir fırına yükleyin. Fırını 1050 santigrat dereceye ısıtın.

Sıcaklığı dakikada 500 standart santimetreküp ün altında 10 dakika, dakikada 300 standart metreküp hidrojen argon'un altında sabitleyin. Daha sonra npss üzerinde grafen büyüme için reaksiyon odasına metan argon dakikada 30 standart metreküp tanıtmak üç saat. Büyüme reaksiyonunun sonunda, metanı kapatın ve NPSS'nin doğal olarak soğumasını bekleyin.

Soğutulmuş substratı deiyonize suile durulayın. NPSS'i de nitrojen tabancasıyla kurutun. Daha sonra grafen NPSS'i azot plazması ile dakikada 300 standart santimetreküp hıza 30 saniye boyunca aşındırın.

Ve reaktif iyon gravür odasında 50 watt'lık bir güç. Grafen NPSS alüminyum azot MOCVD büyüme için, alüminyum azot büyüme için MOCVD tarifi edin. Grafen NPSS ve NPSS muadili ev yapımı MOCVD odasına yükleyin.

12 dakika ısıtılmasından sonra sıcaklık 1200 santigrat derecede sabitlenir. Sonra ortam olarak hidrojen dakikada 7000 standart metreküp tanıtmak. Dakikada 70 standart metreküp trimetil alüminyum.

Ve iki saat boyunca dakikada 500 standart santimetreküp amonya. El yazması yönlere göre alüminyum galyum azot kuantum kuyularının MOCVD büyümesi ile devam edin. Bittiğinde, odasıcaklığını 800 santigrat dereceye düşürün ve P tipi tabakaları 20 dakika boyunca azotla diz çökün.

Alüminyum galyum azot bazlı derin ultraviyole LED imalatı için, foto-rekat 4620'yi gofretlerin üzerine döndürün ve sekiz saniye UV pozlama, 30 saniye lik geliştirme süresi ve iki dakikalık durulama süresi ile litografi yapın. P-galyum azotunun endüktif plazma gravüriçin, 450 watt, dört milimetre ve gravür hızı için 5.6 saniyede nanometre gravür gücü gravür gücü ayarlayın. Kazınan numuneyi 80 derecede beş dakika boyunca aseton haline getirin.

Ardından etanol ve deiyonize suyla yıkanıyor. 12 saniyelik UV maruzkalma süresi, 20 saniyelik gelişen bir süre ve iki dakikalık durulama süresi için NR9 ve litografiye negatif foto-direnç. Numuneyi aseton, etanol ve deiyonize suyla üç kez yıkayın.

Ve elektron ışını buharlaşması ile titanyum alüminyum titanyum altın yatırın. Aynı ayarlar altında negatif foto-resist NR9 ve litografi spin. Ve ultrasonication olmadan aseton, etanol ve deiyonize su ile örnekleri üç kez yıkayın.

Elektron ışını buharlaşması ile nikel-altın deşerek. Ve etanol ve deiyonize su ile üç kez örnek yıkayın. 300 santigrat derece lik bir biriktirme sıcaklığında ve dakikada 100 nanometre birikme hızına plazmayla geliştirilmiş kimyasal buhar birikimi ile 300 nanometre silikon dioksit biriktirin.

Spin fotoğraf-direnç 304 ve sekiz saniye UV maruz kalma süresi, bir dakika gelişmekte olan bir süre ve 15 saniye boyunca% 23 hidroflorik asit içine gofret daldırma önce iki dakika bir durulama süresi. Örneği etanol ve deiyonize su ile üç kez yıkayın. Ve gofretleri azot tabancasıyla kurutun.

Gösterildiği gibi NR9 ile fotoğraf litografisonra, elektron ışını buharlaşma ile alüminyum titanyum altın yatırmak. Ve etanol ve deiyonize su ile örnek üç kez yıkayın. Son yıkama dan sonra eziyet ve mekanik parlatma ile 130 mikrometre safir parlatmak.

Ve de-waxing çözeltisi ve deiyonize su ile örnek yıkayın. Sonra 0,5 0,5 milimetrelik cihaz parçaları içine tüm gofret kesmek için bir lazer kullanın. Ve gofreti cipse dönüştürmek için mekanik bir dikte kullanın.

Tarama ve iletim elektron mikroskobu görüntüleme grafen ve NPSS alüminyum azot morfolojisi belirlemek için kullanılabilir. Ramen çıkık yoğunlukları ve artık stres hesaplamak için kullanılabilir. Electroluminescense, imal edilen derin UV LED'lerin aydınlatımını göstermek için kullanılır.

Gofret her yeni değişiklik önce temiz olması gerektiğini unutmayın. Bu yüzden her adımdan önce iyice gofret durulamak için esastır.