埋め込み金属メッシュを用いた高性能で柔軟で透明な電極のための拡張可能なソリューション処理製作戦略
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11:09 min
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June 23rd, 2017
DOI :
June 23rd, 2017
•Arshad Khan1, Sangeon Lee2, Taehee Jang3, Ze Xiong4, Cuiping Zhang1,5, Jinyao Tang4, L. Jay Guo2,3, Wen-Di Li1,5
1Department of Mechanical Engineering, University of Hong Kong, 2Department of Mechanical Engineering, University of Michigan, 3Department of Electrical Engineering and Computer Science, University of Michigan, 4Department of Chemistry, University of Hong Kong, 5HKU-Shenzhen Institute of Research and Innovation
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この動画の章
0:05
Title
1:27
Photolithography-based Fabrication of an Embedded Metal-mesh Transparent Electrode (EMTE)
10:05
Conclusion
8:33
Results: EMTE Fabrication by the Lithography, Electroplating, and Imprint Transfer (LEIT) Method
5:14
Electron-beam Lithography-based Fabrication of a Sub-micron EMTE
7:44
EMTE Characterization
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