均一な厚さのGeのエレクトロスプレーデポジション
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08:38 min
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August 19th, 2016
DOI :
August 19th, 2016
•Spencer Novak1, Pao-Tai Lin2,3, Cheng Li4, Nikolay Borodinov1, Zhaohong Han5, Corentin Monmeyran5, Neil Patel5, Qingyang Du5, Marcin Malinowski4, Sasan Fathpour4, Chatdanai Lumdee4, Chi Xu4, Pieter G. Kik4, Weiwei Deng6, Juejun Hu7, Anuradha Agarwal7, Igor Luzinov1, Kathleen Richardson4
1Department of Materials Science and Engineering, Clemson University, 2Department of Materials Science and Engineering, Texas A&M University, 3Department of Electrical and Computer Engineering, Texas A&M University, 4College of Optics and Photonics, Center for Research and Education in Optics and Lasers (CREOL), University of Central Florida, 5Department of Materials Science and Engineering, Massachusetts Institute of Technology, 6Department of Mechanical Engineering, Virginia Polytechnic Institute, 7Microphotonics Center, Massachusetts Institute of Technology
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この動画の章
0:05
Title
0:45
Setting Up the Deposition Process
1:48
Electrospray Depostion of Chalcogenide Films
2:58
Characterization of Residual Solvent Removal of the Chalcogenide Films
4:10
Measurement of Chalcogenide Film Thickness
6:50
Results: Evaluation of Electrosprayed Film Properties
7:58
Conclusion
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